光刻 예문

• 그녀의 눈은 바닥에 흩어져있는 네빌의 책들에 잠시 머물렀다.
  她的眼光刻意落在散落在地上的纳威的书上。
• ASML, EUV 노광기는 복잡하니 우리만 만들 수 있음
  ASML：EUV光刻机非常复杂 只有我们能造出来
• 3) 혼자 만드는 : 내가 혼자만드는 타임트리들이 보여져요.
  转载请注明：我孤独了 | 时光刻录机
• 기가포톤, 신형 ArF 드라이 리소그래피용 광원 ‘GT45A’ 8월 출하
  GIGAPHOTON新型ArF干式光刻用光源 「GT45A」将在8月出货
• 이 시장에서는 네덜란드산 극자외선(EUV) 설비 확보가 필수다.
  在该市场必须要有荷兰产极紫外光刻(EUV)设备。
• 기가포톤, 신형 ArF 드라이 리소그래피용 광원 ‘GT45A’를 8월에 출하
  GIGAPHOTON新型ArF干式光刻用光源 「GT45A」将在8月出货
• 1991년에 레이저 마스크 노광기 회사는 Micronic Laser Systems이 되었습니다.
  到1991年，那个光刻机公司已经进化成Micronic Laser Systems公司。
• 단기적인 과제로서는 리소그래피용 엑시머 레이저(DUV)의 경쟁력 강화입니다.
  短期课题是强化光刻准分子激光(DUV)的竞争力。
• 리소그래피 유형 3D NAND G1 TLC
  光刻类型 3D NAND G1 TLC
• 나방 등을 잡아먹는데 흰색 또는 붉은색이다.
  白色或红色背光刻字
• 시간은 우리에게 흔적을 남기고 흘러갔다.
  时光刻下我们之间的痕迹。
• 리소그래피 유형 16nm 3D NAND
  光刻类型 16nm 3D NAND
• LightScribe 기술을 활용하기 위해서는 LightScribe를 지원하는 미디어 디스크 및 소프트웨어를 사용해야 합니다.
  要利用 LightScribe 技术，必须使用支持 LightScribe 盘面光刻技术的光盘和支持软件
• 당시 Gerhard Westerberg는 스톡홀름의 KTH(Royal Institute of Technology)에서 미세가공기술 연구그룹을 이끌고 있었습니다.
  那时，Gerhard Westerberg在斯德哥尔摩的皇家理工学院（KTH）带领着一组显微光刻法研究员。
• 2010 년 교수 Sagiv는 자랑스럽게 nanolithography에 유망 새로운 결과가 NTEGRA 분위기에서 달성되었다는 발표했다.
  在2010年Sagiv教授自豪地宣布，在纳米光刻技术有前途的新成果已取得NTEGRA灵气。
• 듀폰은 내년까지 325억 원을 들여 천안에 극자외선(EUV)용 포토레지스트 공장을 짓고 연구개발(R&D)과 생산에 나설 예정이다.
  杜邦计划到明年为止，投资325亿韩元在天安建设极紫外線(EUV)用光刻胶工厂，进行研究开发(R&D)和生产。
• ASML 대변인은 인텔이 9 월 리소그래피 회의에서 사진을 발표했다고 밝혔지만 인텔은 ASML에 의해 사진이 수정되었다고 밝혔다.
  ASML发言人表示这张图是英特尔9月在一次光刻会议上展示的，然而英特尔方面表示，这张图被ASML修改过了。
• EUVL에는 다음 십년간 저쪽에 Moore의 법률을 전송하는 해결책 힘이 있습니다," 기독교인 Wagner, ASML에 고위 생산 매니저를 말합니다.
  极紫外光刻有分辨能力进行超越摩尔定律在未来十年，說：基督教瓦格纳，ASML公司的高级产品经理。
• ＊EUV）극단 자외선(EUV)이라고 불리는 매우 짧은 파장(13.5nm)의 빛을 사용하는 리소그래피 기술이며, EUV 광원을 사용하면 보다 미세한 가공이 가능해진다.
  ＊EUV）是一种采用被称为极端紫外线(EUV)的、波长非常短(13.5 nm)的光的光刻度技术，通过使用EUV光源，能够进行更微细的加工。
• 이 격려하여 결과에 바탕을 두어, 우리는 다중 E 光速 기술이 미래 석판인쇄술 기준이 될 기술의 한개."이다는 것을 납득시켜습니다
  基於这些令人鼓舞的结果，我们相信，多重电子束技术的技术之一，成为未来的光刻标准。